Romper el monopolio de los países extranjeros, China tomando una tecnología clave de "hacer básico"
"PM2.5" es una pequeña partícula familiar que es inferior o igual a 2,5 micrones de diámetro. Pero desarrollamos el material clave de este chip de fabricación, y si entras en el polvo PM1.0 en el proceso, el material es un desperdicio, y no se puede aplicar al chip." En una frase simple, Tang Yilin dijo un nuevo material básico, "ultra puro" y "ultra - uniforme" - "fotoresista con resina fenólica lineal" para el ambiente duro. A principios de mayo, el director de la base de producción de resina fenólica más grande de Asia dijo al diario científico y tecnológico que tardó 26 años en desarrollar resinas electrónicas de alta gama para la producción de chips. Los expertos creen que este material de alta gama ha roto el monopolio de los Estados Unidos y Japón, y puede acelerar enormemente el desarrollo del chip autónomo de China. El éxito de "fotoresista con resina fenólica lineal" ha hecho que varias empresas fotoresistas ("chip" upstream enterprises) lleguen a la parte superior de los materiales "core", el reportero científico y tecnológico Daily aprendió.
Después de 26 años de exploración, el material clave de "hacer núcleo" finalmente ha estado agudizando. Tang Yilin dijo: "la razón por la que podemos desarrollar y tener éxito es que el equipo de investigación científica tiene una resistencia sin romper y nunca mirar hacia atrás. Esto puede proporcionar alguna referencia para la investigación de chips chinos con grandes responsabilidades. "
